オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術

• Material Type: 図書
• ISBN: 4-86104-125-2
• Title: オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術
• Title Transcription: オプトエレクトロニクス ブンヤ オ チュウシン ト シタ スパッタリングホウ ニ ヨル ハクマク サクセイ セイギョ ギジュツ
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 技術情報協会
• Publication Date: 2006.10
• Publication Date (W3CDTF): 2006
• Extent: 346p
• Size: 27cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: オプトエレクトロニクス オプト エレクトロニクス ( 00576721 )Authorities; 薄膜 ハクマク ( 00562857 )Authorities; スパッタリング スパッタリング ( 01155699 )Authorities
• NDC 9th ed.: 549.95 : Electronic engineering
• NDLC: ND416
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 文献あり
• Price: 84000円 (税込)
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND416-H155
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000008341945; http://id.ndl.go.jp/bib/000008341945
• National Bibliography No. (JPNO): 21129476
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

Table of Contents

目次

第1章 スパッタリング薄膜の成膜現場で発生する問題，原因，対策手法

第1節 スパッタリング法の原理，成膜過程を理解する/ 3

1. スパッタリング現象/ 3

1.1 スパッタリングとは/ 3