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図書
真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発
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真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発
国立国会図書館請求記号
Y151-H15360194
国立国会図書館書誌ID
000008351063
資料種別
図書
著者
亀山晃弘, 黒澤宏, 宮崎大学 [著]
出版者
[亀山晃弘]
出版年
2003-2005
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
130p
NDC
-
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資料に関する注記
一般注記:
文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
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紙
資料種別
図書
タイトル
真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発
タイトルよみ
シンクウ シガイコウ CVD ニ ヨル ジセダイ セキソウガタ システム LSI サクセイヨウ ヨウソ プロセス ギジュツ ノ カイハツ
著者・編者
亀山晃弘, 黒澤宏, 宮崎大学 [著]
著者標目
亀山, 晃弘
カメヤマ, アキヒロ
黒澤, 宏
クロサワ, コウ
宮崎大学
ミヤザキ ダイガク
出版事項
[亀山晃弘]
出版年月日等
2003-2005
2006.4
出版年(W3CDTF)
2003
2005
数量
130p
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
出版地(国名コード)
JP
本文の言語コード
jpn
件名標目
真空紫外光 / エキシマランプ / 光CVD / 半導体絶縁膜 / 積層型システムLSI / System in Package
シンクウ シガイコウ / エキシマランプ / ヒカリ CVD / ハンドウタイ ゼツエンマク / セキソウガタ システム LSI / System in Package
NDLC
Y151
一般注記
文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
科研費課題番号
15360194
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
Y151-H15360194
連携機関・データベース
国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID(NDLBibID)
000008351063
http://id.ndl.go.jp/bib/000008351063
整理区分コード
214
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