真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発

Call No. (NDL): Y151-H15360194
Bibliographic ID of National Diet Library: 000008351063

Material type: 図書

Author: 亀山晃弘, 黒澤宏, 宮崎大学 [著]

Publisher: [亀山晃弘]

Publication date: 2003-2005

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 130p

NDC: -

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Note (General)：: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書

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Material Type: 図書
Title: 真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発
Title Transcription: シンクウシガイコウ CVD ニヨルジセダイセキソウガタシステム LSI サクセイヨウヨウソプロセスギジュツノカイハツ
Author/Editor: 亀山晃弘, 黒澤宏, 宮崎大学 [著]
Author Heading: 亀山, 晃弘カメヤマ, アキヒロ
黒澤, 宏クロサワ, コウ
宮崎大学ミヤザキダイガク
Publication, Distribution, etc.: [亀山晃弘]
Publication Date: 2003-2005
2006.4
Publication Date (W3CDTF): 2003
2005
Extent: 130p
Additional Title: 研究種目基盤研究(B)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: 真空紫外光 / エキシマランプ / 光CVD / 半導体絶縁膜 / 積層型システムLSI / System in Package シンクウシガイコウ / エキシマランプ / ヒカリ CVD / ハンドウタイゼツエンマク / セキソウガタシステム LSI / System in Package
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 15360194
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H15360194
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000008351063
http://id.ndl.go.jp/bib/000008351063
Bibliographic Record Category (NDL): 214