次世代光学材料としての大面積エピタキシャルニオブ酸リチウム極薄膜の合成

• 資料種別: 図書
• タイトル: 次世代光学材料としての大面積エピタキシャルニオブ酸リチウム極薄膜の合成
• タイトルよみ: ジセダイ コウガク ザイリョウ ト シテ ノ ダイメンセキ エピタキシャル ニオブサン リチウム キョクハクマク ノ ゴウセイ
• 著者・編者: 秋山泰伸, 東海大学 [著]
• 著者標目: 秋山, 泰伸 アキヤマ, ヤスノブ; 東海大学 トウカイ ダイガク
• 出版事項: [秋山泰伸]
• 出版年月日等: 2004-2005; 2006.5
• 出版年（W3CDTF）: 2004; 2005
• 数量: 1冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: CVD / ニオブ酸リチウム薄膜 / 多結晶 / 組成 / 複酸化物 CVD / ニオブサン リチウム ハクマク / タケッショウ / ソセイ / フクサンカブツ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 16560671
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H16560671
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008366957; http://id.ndl.go.jp/bib/000008366957
• 整理区分コード: 214