次世代光学材料としての大面積エピタキシャルニオブ酸リチウム極薄膜の合成

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Material Type: 図書
Title: 次世代光学材料としての大面積エピタキシャルニオブ酸リチウム極薄膜の合成
Title Transcription: ジセダイコウガクザイリョウトシテノダイメンセキエピタキシャルニオブサンリチウムキョクハクマクノゴウセイ
Author/Editor: 秋山泰伸, 東海大学 [著]
Author Heading: 秋山, 泰伸アキヤマ, ヤスノブ
東海大学トウカイダイガク
Publication, Distribution, etc.: [秋山泰伸]
Publication Date: 2004-2005
2006.5
Publication Date (W3CDTF): 2004
2005
Extent: 1冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: CVD / ニオブ酸リチウム薄膜 / 多結晶 / 組成 / 複酸化物 CVD / ニオブサンリチウムハクマク / タケッショウ / ソセイ / フクサンカブツ
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 16560671
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H16560671
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000008366957
http://id.ndl.go.jp/bib/000008366957
Bibliographic Record Category (NDL): 214