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半導体および絶縁体へのイオン注入技術

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半導体および絶縁体へのイオン注入技術

国立国会図書館請求記号
ND371-H179
国立国会図書館書誌ID
000009090526
資料種別
図書
著者
大吉啓司 著
出版者
アイピーシー
出版年
2003.3
資料形態
ページ数・大きさ等
151p ; 27cm
NDC
549.8
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目次

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  • 著者からのメッセージ(—科学技術に携わる全ての方々へ—)

  • まえがき

  • 第1章 序説/ 1

  • 1.1 イオン注入技術の概説/ 1

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
4-901493-32-9
タイトルよみ
ハンドウタイ オヨビ ゼツエンタイ エノ イオン チュウニュウ ギジュツ
著者・編者
大吉啓司 著
著者標目
大吉, 啓司 オオヨシ, ケイジ ( 01102325 )典拠
出版年月日等
2003.3
出版年(W3CDTF)
2003
数量
151p