New accurate methods of aberration and polarization evaluation for lithography optics

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: New accurate methods of aberration and polarization evaluation for lithography optics
• 著者・編者: Hiroshi Nomura [著]
• 著者標目: 野村, 博 ノムラ, ヒロシ
• 出版事項: [Hiroshi Nomura]
• 出版年月日等: [2007]
• 出版年（W3CDTF）: 2007
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: リソグラフィ装置の収差と偏光に関する新規高精度評価法 リソグラフィ ソウチ ノ シュウサ ト ヘンコウ ニ カンスル シンキ コウセイド ヒョウカホウ
• 授与機関名: 東北大学
• 授与年月日: 平成19年3月14日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2007
• 報告番号: 乙第8838号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2007-M812
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009090880; http://id.ndl.go.jp/bib/000009090880
• 整理区分コード: 213