MEMSマテリアルの最新技術

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-88231-968-9
• タイトル: MEMSマテリアルの最新技術
• タイトルよみ: MEMS マテリアル ノ サイシン ギジュツ
• 著者・編者: 江刺正喜 監修
• 著者標目: 江刺, 正喜, 1949- エサシ, マサヨシ, 1949- ( 00154561 )典拠
• 出版事項: 東京 : シーエムシー出版
• 出版年月日等: 2007.11
• 出版年（W3CDTF）: 2007
• 数量: 368p
• 大きさ: 27cm
• 並列タイトル等: Advanced technology of MEMS material
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: マイクロマシン マイクロマシン ( 00577044 )典拠
• NDC9版: 530 : 機械工学
• NDLC: NB21
• NDC（参考図書紹介）: 530
• 紹介文（参考図書紹介）: 本書は、MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems)に関する最新技術を解説した専門書。MEMSとは、微小電気機械素子、またその創製技術のことである。4章構成で、「第1章MEMS材料」、「第2章MEMSの製作」、「第3章MEMSデバイス」、「第4章MEMS周辺と応用」から成る。第1章では、圧電MEMSとして用いられるZnO , AiN , PZT薄膜(第1章1.)、SiC MEMSの加工技術(第1章3.)、サファイア真空圧力センサ(第1章4.)、LTCC基板(第1章7.)等についての技術動向、第2章ではレジスト塗布と露光技術(第2章1.)、シリコン単結晶の異方性エッチング(第2章2.)、シリコン深堀り技術(第2章3.)、微小めっき技術(第2章5.)、ステルスダイシング技術、(第2章7.)、ウェハレベルパッケージング(第2章8.)等についての技術動向を概説している。第3章では、シリコンを母材としたMEMS角速度センサ(第3章1.)、高周波メカニカルフィルタ(第3章3.)、RF回路にMEMS技術を応用したスイッチと可変キャパシタ技術(第3章4.)、MEMS光スキャナ(第3章6.)、マイクロ燃料改質器(第3章7.)、プローブ記録再生装置(第3章9.)等について技術動向を解説し、第4章では静電容量型MEMSセンサ用センスアンプLSi(第4章2.)、デシタル・マイクロミラー・デバイスをフォトマスクの代わりに用いたマスクレス露光機(第4章4.)、空間光変調器を使用したフォトマスク用描画装置(第4章5.)等について紹介している。
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 70000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: NB21-J2
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009221325; http://id.ndl.go.jp/bib/000009221325
• 全国書誌番号: 21362079
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

目次

序章　MEMSの基礎と応用/ 1

第1章 MEMS材料

1 圧電薄膜（ZnO，AlN，PZT）/ 8

1.1 概要/ 8