Photomask technology 2007 : 18-21 September 2007 : Monterey, California, USA. : SPIE conference on photomask technology : 27th international symposium on photomask technology : SPIE's annual BACUS symposium on photomask technology : Sep 2007, Monterey, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN（セット）: 9780819468871 (set)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Photomask technology 2007 : 18-21 September 2007 : Monterey, California, USA. : SPIE conference on photomask technology : 27th international symposium on photomask technology : SPIE's annual BACUS symposium on photomask technology : Sep 2007, Monterey, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 6730
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 6730.
• 著者標目: Naber, Robert J.; Kawahira, Hiroichi.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2007.
• 出版年（W3CDTF）: 2007
• 数量: 3 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits -- Masks -- Congresses.; Microlithography -- Congresses.
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.; " (...) convened in Monterey for SPIE's annual BACUS Symposium on Photomask Technology (Sept. 16-21) (...) " -- pt. 1, p. xxxi.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-08-459
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009242231; http://id.ndl.go.jp/bib/000009242231
• OCLC番号: 186510143; https://www.worldcat.org/oclc/186510143
• 整理区分コード: 215