Fabrication of novel n- and p-type crystal Si films from chlorinated materials by rf plasma-enhanced chemical vapor deposition and their applications to Si thin-film solar cells

国立国会図書館請求記号: UT51-2007-T508
国立国会図書館書誌ID: 000009284577

資料種別: 博士論文

著者: 李亜麗 [著]

出版者: [李亜麗]

出版年: [2007]

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 1冊

授与大学名・学位: 埼玉大学,博士 (工学)

すべて見る

資料に関する注記

一般注記：: 博士論文授与名簿の本タイトル: Fabrication of novel n- and p-type crystal silicon films from chlorinated materials by rf plasma-enhanced chemical vapor deposition an...

書店で探す

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

連携機関・データベースの一覧

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

CiNii Research
検索サービス
紙
連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。
この本の所蔵を確認

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

紙

資料種別: 博士論文
タイトル: Fabrication of novel n- and p-type crystal Si films from chlorinated materials by rf plasma-enhanced chemical vapor deposition and their applications to Si thin-film solar cells
著者・編者: 李亜麗 [著]
著者標目: 李, 亜麗リ, ヤリ
出版事項: [李亜麗]
出版年月日等: [2007]
出版年（W3CDTF）: 2007
数量: 1冊
並列タイトル等: 塩素系原料を出発原料としたrfプラズマCVD法による新規nおよびp型微結晶Si薄膜の作製およびSi薄膜太陽電池への応用に関する研究エンソケイゲンリョウオシュッパツゲンリョウトシタ rf プラズマ CVDホウニヨルシンキ n オヨビ pガタビケッショウ Si ハクマクノサクセイオヨビ Si ハクマクタイヨウデンチエノオウヨウニカンスルケンキュウ
授与機関名: 埼玉大学
授与年月日: 平成19年3月23日
授与年月日（W3CDTF）: 2007
報告番号: 甲第614号
学位: 博士 (工学)
学位論文注記: 博士論文
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
著者別名: Li, Yali
NDLC: UT51
一般注記: 博士論文
授与名簿の本タイトル: Fabrication of novel n- and p-type crystal silicon films from chlorinated materials by rf plasma-enhanced chemical vapor deposition and their applications to Si thin-film solar cells
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: UT51-2007-T508
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000009284577
http://id.ndl.go.jp/bib/000009284577
整理区分コード: 213