次世代ゲート絶縁膜における不純物とシリコンの相互拡散

• 資料種別: 図書
• タイトル: 次世代ゲート絶縁膜における不純物とシリコンの相互拡散
• タイトルよみ: ジセダイ ゲート ゼツエンマク ニ オケル フジュンブツ ト シリコン ノ ソウゴ カクサン
• 著者・編者: 伊藤公平, 慶應義塾大学 [著]
• 著者標目: 伊藤, 公平 イトウ, コウヘイ; 慶應義塾大学 ケイオウ ギジュク ダイガク
• 出版事項: [伊藤公平]
• 出版年月日等: 2004-2006; 2007.5
• 出版年（W3CDTF）: 2004; 2006
• 数量: 1冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: シリコン / 自己拡散 / ゲート絶縁膜 / 点欠陥 / 不純物拡散 シリコン / ジコ カクサン / ゲート ゼツエンマク / テン ケッカン / フジュンブツ カクサン
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 16360021
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H16360021
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009293008; http://id.ndl.go.jp/bib/000009293008
• 整理区分コード: 214