次世代ゲート絶縁膜における不純物とシリコンの相互拡散

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Material Type: 図書
Title: 次世代ゲート絶縁膜における不純物とシリコンの相互拡散
Title Transcription: ジセダイゲートゼツエンマクニオケルフジュンブツトシリコンノソウゴカクサン
Author/Editor: 伊藤公平, 慶應義塾大学 [著]
Author Heading: 伊藤, 公平イトウ, コウヘイ
慶應義塾大学ケイオウギジュクダイガク
Publication, Distribution, etc.: [伊藤公平]
Publication Date: 2004-2006
2007.5
Publication Date (W3CDTF): 2004
2006
Extent: 1冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(B)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
eng
Subject Heading: シリコン / 自己拡散 / ゲート絶縁膜 / 点欠陥 / 不純物拡散シリコン / ジコカクサン / ゲートゼツエンマク / テンケッカン / フジュンブツカクサン
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 16360021
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H16360021
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009293008
http://id.ndl.go.jp/bib/000009293008
Bibliographic Record Category (NDL): 214