Siエピタキシャル基板への埋め込酸化膜形成に関する研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: Siエピタキシャル基板への埋め込酸化膜形成に関する研究
• タイトルよみ: Si エピタキシャル キバン エ ノ ウメコミ サンカマク ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 梅野正隆, 福井工業大学 [著]
• 著者標目: 梅野, 正隆 ウメノ, マサタカ; 福井工業大学 フクイ コウギョウ ダイガク
• 出版事項: [梅野正隆]
• 出版年月日等: 2005-2006; 2007.5
• 出版年（W3CDTF）: 2005; 2006
• 数量: 1冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: 結晶工学 / LSI基板 / MBE / シリコン / SOI ケッショウ コウガク / LSI キバン / MBE / シリコン / SOI
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 17560014
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H17560014
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009308255; http://id.ndl.go.jp/bib/000009308255
• 整理区分コード: 214