Siエピタキシャル基板への埋め込酸化膜形成に関する研究

• Material Type: 図書
• Title: Siエピタキシャル基板への埋め込酸化膜形成に関する研究
• Title Transcription: Si エピタキシャル キバン エ ノ ウメコミ サンカマク ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 梅野正隆, 福井工業大学 [著]
• Author Heading: 梅野, 正隆 ウメノ, マサタカ; 福井工業大学 フクイ コウギョウ ダイガク
• Publication, Distribution, etc.: [梅野正隆]
• Publication Date: 2005-2006; 2007.5
• Publication Date (W3CDTF): 2005; 2006
• Extent: 1冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(C)
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn; eng
• Subject Heading: 結晶工学 / LSI基板 / MBE / シリコン / SOI ケッショウ コウガク / LSI キバン / MBE / シリコン / SOI
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 17560014
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H17560014
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000009308255; http://id.ndl.go.jp/bib/000009308255
• Bibliographic Record Category (NDL): 214