次世代積層型システムLSI用貫通電極の絶縁膜作製技術の開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 次世代積層型システムLSI用貫通電極の絶縁膜作製技術の開発
• タイトルよみ: ジセダイ セキソウガタ システム LSIヨウ カンツウ デンキョク ノ ゼツエンマク サクセイ ギジュツ ノ カイハツ
• 著者・編者: 横谷篤至, 宮崎大学 [著]
• 著者標目: 横谷, 篤至 ヨコタニ, アツシ; 宮崎大学 ミヤザキ ダイガク
• 出版事項: [横谷篤至]
• 出版年月日等: 2005-2006; 2007.3
• 出版年（W3CDTF）: 2005; 2006
• 数量: 115p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 積層型システムLSI / 絶縁膜 / 貫通電極 / 真空紫外光 / エキシマランプ / 光CVD セキソウガタ システム LSI / ゼツエンマク / カンツウ デンキョク / シンクウ シガイコウ / エキシマランプ / ヒカリ CVD
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 17560288
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H17560288
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009333403; http://id.ndl.go.jp/bib/000009333403
• 整理区分コード: 214