次世代積層型システムLSI用貫通電極の絶縁膜作製技術の開発

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Material Type: 図書
Title: 次世代積層型システムLSI用貫通電極の絶縁膜作製技術の開発
Title Transcription: ジセダイセキソウガタシステム LSIヨウカンツウデンキョクノゼツエンマクサクセイギジュツノカイハツ
Author/Editor: 横谷篤至, 宮崎大学 [著]
Author Heading: 横谷, 篤至ヨコタニ, アツシ
宮崎大学ミヤザキダイガク
Publication, Distribution, etc.: [横谷篤至]
Publication Date: 2005-2006
2007.3
Publication Date (W3CDTF): 2005
2006
Extent: 115p
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: 積層型システムLSI / 絶縁膜 / 貫通電極 / 真空紫外光 / エキシマランプ / 光CVD セキソウガタシステム LSI / ゼツエンマク / カンツウデンキョク / シンクウシガイコウ / エキシマランプ / ヒカリ CVD
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 17560288
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H17560288
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009333403
http://id.ndl.go.jp/bib/000009333403
Bibliographic Record Category (NDL): 214