ドライプロセスによる高速イオン移動界面の構築と高出力電極への展開

• 資料種別: 図書
• タイトル: ドライプロセスによる高速イオン移動界面の構築と高出力電極への展開
• タイトルよみ: ドライ プロセス ニ ヨル コウソク イオン イドウ カイメン ノ コウチク ト コウシュツリョク デンキョク エノ テンカイ
• 著者・編者: 今西誠之, 三重大学 [著]
• 著者標目: 今西, 誠之 イマニシ, ノブユキ; 三重大学 ミエ ダイガク
• 出版事項: [今西誠之]
• 出版年月日等: 2005-2007; 2008.3
• 出版年（W3CDTF）: 2005; 2007
• 数量: 95p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: インターカレーション / LiCoO2 / WO3 / 界面抵抗 / 薄膜電極 インターカレーション / LiCoO2 / WO3 / カイメン テイコウ / ハクマク デンキョク
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 17350098
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H17350098
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009556924; http://id.ndl.go.jp/bib/000009556924
• 整理区分コード: 214