ドライプロセスによる高速イオン移動界面の構築と高出力電極への展開

Notes on use

Search by Bookstore

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 図書
Title: ドライプロセスによる高速イオン移動界面の構築と高出力電極への展開
Title Transcription: ドライプロセスニヨルコウソクイオンイドウカイメンノコウチクトコウシュツリョクデンキョクエノテンカイ
Author/Editor: 今西誠之, 三重大学 [著]
Author Heading: 今西, 誠之イマニシ, ノブユキ
三重大学ミエダイガク
Publication, Distribution, etc.: [今西誠之]
Publication Date: 2005-2007
2008.3
Publication Date (W3CDTF): 2005
2007
Extent: 95p
Additional Title: 研究種目基盤研究(B)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
eng
Subject Heading: インターカレーション / LiCoO2 / WO3 / 界面抵抗 / 薄膜電極インターカレーション / LiCoO2 / WO3 / カイメンテイコウ / ハクマクデンキョク
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 17350098
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H17350098
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009556924
http://id.ndl.go.jp/bib/000009556924
Bibliographic Record Category (NDL): 214