低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上

• 資料種別: 図書
• タイトル: 低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上
• タイトルよみ: テイユウデンリツ コウゼツエン タイリョク プラズマ タイセキ a-C : Fマク ニ ヨル キキ ゼツエン ノ ケイリョウカ ト タイデンアツ コウジョウ
• 著者・編者: 酒井洋輔, 北海道大学 [著]
• 著者標目: 著者 ： 酒井, 洋輔, 1944- サカイ, ヨウスケ, 1944- ( 01240935 )典拠; 北海道大学 ホッカイドウ ダイガク ( 00260056 )典拠
• 出版事項: [酒井洋輔]
• 出版年月日等: 2005-2007; 2008.4
• 出版年（W3CDTF）: 2005; 2007
• 数量: 1冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 絶縁膜 / プラズマCVD / パーフルオロカーボン / 低誘電率 / 絶縁耐力 / a-C : F膜 ゼツエンマク / プラズマ CVD / パーフルオロカーボン / テイユウデンリツ / ゼツエン タイリョク / a-C : Fマク
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 17360121
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H17360121
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009605362; http://id.ndl.go.jp/bib/000009605362
• 整理区分コード: 214