微量SiO2添加によるHfO2の結晶構造変化と高誘電率化に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 微量SiO2添加によるHfO2の結晶構造変化と高誘電率化に関する研究
• タイトルよみ: ビリョウ SiO2 テンカ ニ ヨル HfO2 ノ ケッショウ コウゾウ ヘンカ ト コウユウデンリツカ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 富田一行 [著]
• 著者標目: 富田, 一行 トミダ, カズユキ
• 出版事項: [富田一行]
• 出版年月日等: [2008]
• 出版年（W3CDTF）: 2008
• 数量: 1冊
• 授与機関名: 東京大学
• 授与年月日: 平成20年3月24日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2008
• 報告番号: 甲第23478号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2008-S119
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000010057732; http://id.ndl.go.jp/bib/000010057732
• 整理区分コード: 213