微量SiO2添加によるHfO2の結晶構造変化と高誘電率化に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 微量SiO2添加によるHfO2の結晶構造変化と高誘電率化に関する研究
Title Transcription: ビリョウ SiO2 テンカニヨル HfO2 ノケッショウコウゾウヘンカトコウユウデンリツカニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 富田一行 [著]
Author Heading: 富田, 一行トミダ, カズユキ
Publication, Distribution, etc.: [富田一行]
Publication Date: [2008]
Publication Date (W3CDTF): 2008
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 東京大学
Date Granted: 平成20年3月24日
Date Granted (W3CDTF): 2008
Dissertation Number: 甲第23478号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2008-S119
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000010057732
http://id.ndl.go.jp/bib/000010057732
Bibliographic Record Category (NDL): 213