ドライ・ウエットエッチング技術全集

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-86104-280-5
• タイトル: ドライ・ウエットエッチング技術全集
• タイトルよみ: ドライ ウエット エッチング ギジュツ ゼンシュウ
• 著者・編者: 青木良憲 企画編集
• 著者標目: 青木, 良憲 アオキ, ヨシノリ ( 01116427 )典拠
• 出版事項: 東京 : 技術情報協会
• 出版年月日等: 2009.3
• 出版年（W3CDTF）: 2009
• 数量: 425p
• 大きさ: 27cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 金属加工 キンゾクカコウ ( 00565910 )典拠; 腐食 フショク ( 00563793 )典拠; 印刷回路 インサツカイロ ( 00564156 )典拠; 半導体 ハンドウタイ ( 00562913 )典拠
• NDC9版: 566 : 金属加工．製造冶金
• NDLC: PD41
• NDC（参考図書紹介）: 566
• 紹介文（参考図書紹介）: 本書は、ドライ・ウエットエッチングについて、用途・目的に応じた豊富な事例を用いて、最新の技術動向をまとめた資料。全体は4章に分かれています。第1章では、ウエットエッチング液に焦点をあて、開発動向や課題、それぞれの液の特性・管理方法などを解説している。また、異方性エッチングプロセスのモデル化と解析方法についても言及している。第2章ではプリント基板、半導体関連、MEMS加工、透明導電膜・フィルム関連等の用途別にウエットエッチング技術を紹介し、さらに応用事例についても報告している。第3章では、ドライエッチングについて、プラズマエッチング表面反応のシュミレーションや、機差解消・安定稼動のための装置インピーダンスモニタリング技術等を紹介し、第4章で用途別の技術紹介と応用事例を報告している。
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 84000円 (税込)
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: PD41-J6
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000010070076; http://id.ndl.go.jp/bib/000010070076
• 全国書誌番号: 21574117
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

目次

第1章 ウェットエッチング液の特性・開発と液管理

第1節 ウェットエッチング液の開発動向と課題/ 3

はじめに/ 3

1. エッチング液について/ 3