ドライ・ウエットエッチング技術全集

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-86104-280-5
• Title: ドライ・ウエットエッチング技術全集
• Title Transcription: ドライ ウエット エッチング ギジュツ ゼンシュウ
• Author/Editor: 青木良憲 企画編集
• Author Heading: 青木, 良憲 アオキ, ヨシノリ ( 01116427 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 技術情報協会
• Publication Date: 2009.3
• Publication Date (W3CDTF): 2009
• Extent: 425p
• Size: 27cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: 金属加工 キンゾクカコウ ( 00565910 )Authorities; 腐食 フショク ( 00563793 )Authorities; 印刷回路 インサツカイロ ( 00564156 )Authorities; 半導体 ハンドウタイ ( 00562913 )Authorities
• NDC 9th ed.: 566 : Metallurgical technology
• NDLC: PD41
• NDC (Introduction of Reference Books): 566
• Introduction (Introduction of Reference Books): 本書は、ドライ・ウエットエッチングについて、用途・目的に応じた豊富な事例を用いて、最新の技術動向をまとめた資料。全体は4章に分かれています。第1章では、ウエットエッチング液に焦点をあて、開発動向や課題、それぞれの液の特性・管理方法などを解説している。また、異方性エッチングプロセスのモデル化と解析方法についても言及している。第2章ではプリント基板、半導体関連、MEMS加工、透明導電膜・フィルム関連等の用途別にウエットエッチング技術を紹介し、さらに応用事例についても報告している。第3章では、ドライエッチングについて、プラズマエッチング表面反応のシュミレーションや、機差解消・安定稼動のための装置インピーダンスモニタリング技術等を紹介し、第4章で用途別の技術紹介と応用事例を報告している。
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 文献あり
• Price: 84000円 (税込)
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: PD41-J6
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000010070076; http://id.ndl.go.jp/bib/000010070076
• National Bibliography No. (JPNO): 21574117
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

Table of Contents

目次

第1章 ウェットエッチング液の特性・開発と液管理

第1節 ウェットエッチング液の開発動向と課題/ 3

はじめに/ 3

1. エッチング液について/ 3