Optical microlithography 22 : 24-27 February 2009 : San Jose, California, United States.

• 資料種別: 図書
• ISBN（セット）: 9780819475275 (set)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Optical microlithography 22 : 24-27 February 2009 : San Jose, California, United States.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7274
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 7274.
• 著者標目: SEMATECH, Inc.; Levinson, Harry J.; Dusa, Mircea V.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2009.
• 出版年（W3CDTF）: 2009
• 数量: 2 parts : ill. ; 28 cm.
• その他のタイトル: SPIE optical microlithography 2009 conference : Feb 2009, San Jose, CA.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits -- Masks -- Congresses.; Microlithography -- Congresses.; X-ray lithography -- Congresses.; Manufacturing processes -- Congresses.
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-09-2147
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000010230920; http://id.ndl.go.jp/bib/000010230920
• OCLC番号: 325000265; https://www.worldcat.org/oclc/325000265
• 整理区分コード: 215