Alternative lithographic technologies : 24-26 February 2009 : San Jose, California, United States. : 2009 conference on alternative lithographic technologies : Feb 2009, San Jose, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN（セット）: 9780819475244 (set)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Alternative lithographic technologies : 24-26 February 2009 : San Jose, California, United States. : 2009 conference on alternative lithographic technologies : Feb 2009, San Jose, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7271
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 7271.
• 著者標目: SEMATECH, Inc.; Schellenberg, F. M., 1959-; La Fontaine, Bruno M.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2009.
• 出版年（W3CDTF）: 2009
• 数量: 2 parts : ill. ; 28 cm.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Extreme ultraviolet lithography -- Congresses.; Lithography, Electron beam -- Congresses.; Microlithography -- Industrial applications -- Congresses.; Masks (Electronics) -- Congresses.
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.; "In previous years, this conference has gone by the name of 'Emerging Lithographic Technologies.' (...) This year, we have changed the name (...) " -- introd.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-10-79
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000010270469; http://id.ndl.go.jp/bib/000010270469
• OCLC番号: 355813963; https://www.worldcat.org/oclc/355813963
• 整理区分コード: 215