Advances in resist materials and processing technology 26 : 23-25 February 2009 : San Jose, California, United States. : Feb 2009, San Jose, CA. (SPIE Proceedings ; 7273)

Advances in resist materials and processing technology 26 : 23-25 February 2009 : San Jose, California, United States. : Feb 2009, San Jose, CA.

(SPIE Proceedings ; 7273)

国立国会図書館請求記号: M17-10-82
国立国会図書館書誌ID: 000010270542

資料種別: 図書

著者: SEMATECH, Inc.ほか

出版者: SPIE

出版年: c2009.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 2 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN（セット）: 9780819475268 (set)
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Advances in resist materials and processing technology 26 : 23-25 February 2009 : San Jose, California, United States. : Feb 2009, San Jose, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7273
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 7273.
著者標目: SEMATECH, Inc.
Henderson, Clifford L.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2009.
出版年（W3CDTF）: 2009
数量: 2 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Photoresists -- Congresses.
Microlithography -- Congresses.
NDLC: M17
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-10-82
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000010270542
http://id.ndl.go.jp/bib/000010270542
OCLC番号: 355149683
https://www.worldcat.org/oclc/355149683
整理区分コード: 215