Growth and characterizations of a series of semiconducting silicide layers based on the reactive deposition techniques

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Growth and characterizations of a series of semiconducting silicide layers based on the reactive deposition techniques
• 著者・編者: Junhua Hu [著]
• 著者標目: 胡, 俊華 コ, シュンカ
• 出版事項: [Junhua Hu]
• 出版年月日等: [2009]
• 出版年（W3CDTF）: 2009
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 熱反応堆積法によるシリサイド半導体薄膜の成長及び評価 ネツ ハンノウ タイセキホウ ニ ヨル シリサイド ハンドウタイ ハクマク ノ セイチョウ オヨビ ヒョウカ
• 授与機関名: 静岡大学
• 授与年月日: 平成21年9月29日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2009
• 報告番号: 甲第608号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• 著者別名: Hu, Junhua
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2009-S625
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000010820764; http://id.ndl.go.jp/bib/000010820764
• 整理区分コード: 213