26th European mask and lithography conference : 18-20 January 2010 : Grenoble, France. : EMLC 2010 : EMLC2010 : Jan 2010, Grenoble, France. (SPIE Proceedings ; 7545)

26th European mask and lithography conference : 18-20 January 2010 : Grenoble, France. : EMLC 2010 : EMLC2010 : Jan 2010, Grenoble, France.

(SPIE Proceedings ; 7545)

国立国会図書館請求記号: M17-10-3812
国立国会図書館書誌ID: 000010959715

資料種別: 図書

著者: VDE/VDI. Society Microelectronics, Micro- and Precision Engineering (GMM)ほか

出版者: SPIE

出版年: c2010.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 1 v. (various pagings) : ill. ; 28 cm.

NDC: -

すべて見る

資料に関する注記

一般注記：: Papers." (...) EMLC2010 (...) The conference has annually brought together (...) " -- foreword.

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

紙

資料種別: 図書
ISBN: 9780819479419
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: 26th European mask and lithography conference : 18-20 January 2010 : Grenoble, France. : EMLC 2010 : EMLC2010 : Jan 2010, Grenoble, France.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7545
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 7545.
著者標目: VDE/VDI. Society Microelectronics, Micro- and Precision Engineering (GMM)
Behringer, Uwe F. W.
Maurer, Wilhelm.
European Mask and Lithography Conference (26th : 2010 : Grenoble, France)
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2010.
出版年（W3CDTF）: 2010
数量: 1 v. (various pagings) : ill. ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Integrated circuits -- Masks -- Congresses.
Microlithography -- Congresses.
LCC: TK7872.M3
NDLC: M17
一般注記: Papers.
" (...) EMLC2010 (...) The conference has annually brought together (...) " -- foreword.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-10-3812
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000010959715
http://id.ndl.go.jp/bib/000010959715
OCLC番号: 670241704
https://www.worldcat.org/oclc/670241704
整理区分コード: 215