Ultimate scaling of high-κ gate dielectrics and impact on carrier transport of field-effect transistors

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Ultimate scaling of high-κ gate dielectrics and impact on carrier transport of field-effect transistors
• 著者・編者: Takashi Ando [著]
• 著者標目: 安藤, 崇志 アンドウ, タカシ
• 出版事項: [Takashi Ando]
• 出版年月日等: [2010]
• 出版年（W3CDTF）: 2010
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜化と電界効果トランジスタのキャリア輸送への影響 コウユウデンリツ ゲート ゼツエンマク ノ ハクマクカ ト デンカイ コウカ トランジスタ ノ キャリア ユソウ エ ノ エイキョウ
• 授与機関名: 大阪大学
• 授与年月日: 平成22年9月22日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2010
• 報告番号: 甲第14540号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2010-M871
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000011089952; http://id.ndl.go.jp/bib/000011089952
• 整理区分コード: 213