Ultimate scaling of high-κ gate dielectrics and impact on carrier transport of field-effect transistors

• Material Type: 博士論文
• Title: Ultimate scaling of high-κ gate dielectrics and impact on carrier transport of field-effect transistors
• Author/Editor: Takashi Ando [著]
• Author Heading: 安藤, 崇志 アンドウ, タカシ
• Publication, Distribution, etc.: [Takashi Ando]
• Publication Date: [2010]
• Publication Date (W3CDTF): 2010
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜化と電界効果トランジスタのキャリア輸送への影響 コウユウデンリツ ゲート ゼツエンマク ノ ハクマクカ ト デンカイ コウカ トランジスタ ノ キャリア ユソウ エ ノ エイキョウ
• Degree grantor/type: 大阪大学
• Date Granted: 平成22年9月22日
• Date Granted (W3CDTF): 2010
• Dissertation Number: 甲第14540号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2010-M871
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000011089952; http://id.ndl.go.jp/bib/000011089952
• Bibliographic Record Category (NDL): 213