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フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

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フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

国立国会図書館請求記号
ND386-J131
国立国会図書館書誌ID
000011203562
資料種別
図書
著者
田邉功, 竹花洋一, 法元盛久 共著
出版者
東京電機大学出版局
出版年
2011.4
資料形態
ページ数・大きさ等
323p ; 21cm
NDC
549.8
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資料に関する注記

一般注記:

『入門フォトマスク技術』 (工業調査会2006年刊) の改題

資料詳細

要約等:

本書は次世代技術を支えるフォトマスク技術について,開発に携わる著者がわかりやすく,体系的にまとめたものである。(提供元: 出版情報登録センター(JPRO))

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目次

  • 第1章 フォトマスク技術の基本

  • 1.1 フォトマスクとは

  • 1.2 リソグラフィ技術とフォトマスク

  • 1.3 フォトマスクの基本

  • 1.4 データ準備

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書誌情報

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デジタル

資料種別
図書
ISBN
978-4-501-32820-7
タイトルよみ
フォトマスク : デンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ
著者・編者
田邉功, 竹花洋一, 法元盛久 共著
著者標目
田辺, 功, 1937- タナベ, イサオ, 1937- ( 00534033 )典拠
竹花, 洋一 タケハナ, ヨウイチ ( 01092236 )典拠
法元, 盛久 ホウガ, モリヒサ ( 01092237 )典拠
出版年月日等
2011.4
出版年(W3CDTF)
2011
数量
323p