フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-501-32820-7
• Title: フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術
• Title Transcription: フォトマスク : デンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ
• Author/Editor: 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久 共著
• Author Heading: 田辺, 功, 1937- タナベ, イサオ, 1937- ( 00534033 )Authorities; 竹花, 洋一 タケハナ, ヨウイチ ( 01092236 )Authorities; 法元, 盛久 ホウガ, モリヒサ ( 01092237 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 東京電機大学出版局
• Publication Date: 2011.4
• Publication Date (W3CDTF): 2011
• Extent: 323p
• Size: 21cm
• Alternative Title: Photomask Technology
• Additional Title: Photomask Technology Photomask Technology; 入門フォトマスク技術 ニュウモン フォトマスク ギジュツ
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: フォトマスク フォトマスク ( 01162212 )Authorities
• NDC 9th ed.: 549.8 : Electronic engineering
• NDLC: ND386
• Target Audience: 一般
• Note (General): 『入門フォトマスク技術』 (工業調査会2006年刊) の改題
• Note (Bibliography): 索引あり
• Price: 3800円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND386-J131
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000011203562; http://id.ndl.go.jp/bib/000011203562
• National Bibliography No. (JPNO): 21946755
• NS-MARC No.: 122147600
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 112

• Summary, etc.: 本書は次世代技術を支えるフォトマスク技術について，開発に携わる著者がわかりやすく，体系的にまとめたものである。(Provided by: 出版情報登録センター（JPRO）)

Table of Contents

第1章　フォトマスク技術の基本

1.1　フォトマスクとは

1.2　リソグラフィ技術とフォトマスク

1.3　フォトマスクの基本

1.4　データ準備