Extreme ultraviolet (EUV) lithography 2 : 28 February-3 March 2011 : San Jose, California, United States : 2nd SPIE conference on extreme ultraviolet (EUV) lithography : Feb 2011, San Jose, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN（セット）: 9780819485281 (pbk. : set)
• ISSN（シリーズ）: 0277786X
• タイトル: Extreme ultraviolet (EUV) lithography 2 : 28 February-3 March 2011 : San Jose, California, United States : 2nd SPIE conference on extreme ultraviolet (EUV) lithography : Feb 2011, San Jose, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7969
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 7969.
• 著者標目: La Fontaine, Bruno M.; Naulleau, Patrick P. (Patrick Pascal)
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2011.
• 出版年（W3CDTF）: 2011
• 数量: 2 parts
• 形態の詳細: ill.
• 大きさ: 28 cm.
• その他のタイトル: SPIE advanced lithography.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Extreme ultraviolet lithography--Congresses.; Ultraviolet radiation--Industrial applications--Congresses.; Lasers--Industrial applications--Congresses.; Photolithography--Congresses.; Optical coatings--Congresses.; Extreme ultraviolet lithography; EUV
• LCC: TK7872.M3
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-12-322
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000011254276; http://id.ndl.go.jp/bib/000011254276
• OCLC番号: 751794175; https://www.worldcat.org/oclc/751794175
• 目録規則: 英米目録規則
• 整理区分コード: 215