Advances in resist materials and processing technology 28 : 28 February-2 March 2011 : San Jose, California, United States : Feb 2011, San Jose, CA. (SPIE Proceedings ; 7972)

Advances in resist materials and processing technology 28 : 28 February-2 March 2011 : San Jose, California, United States : Feb 2011, San Jose, CA.

(SPIE Proceedings ; 7972)

国立国会図書館請求記号: M17-12-326
国立国会図書館書誌ID: 000011254294

資料種別: 図書

著者: Allen, Robert D.ほか

出版者: SPIE

出版年: c2011.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 2 parts ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

形態の詳細：: ill. (some col.)

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN（セット）: 9780819485311 (set)
ISSN（シリーズ）: 0277786X
タイトル: Advances in resist materials and processing technology 28 : 28 February-2 March 2011 : San Jose, California, United States : Feb 2011, San Jose, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7972
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 7972.
著者標目: Allen, Robert D.
Somervell, Mark Howell, 1973-
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2011.
出版年（W3CDTF）: 2011
数量: 2 parts
形態の詳細: ill. (some col.)
大きさ: 28 cm.
その他のタイトル: SPIE advanced lithography.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
ジャンル・形式用語: Electronic books.
件名標目: Photoresists--Congresses.
Microlithography--Congresses.
Resist materials
Novel materials
Processing technology
LCC: TK7874
NDLC: M17
対象利用者: 一般
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-12-326
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000011254294
http://id.ndl.go.jp/bib/000011254294
OCLC番号: 751794157
https://www.worldcat.org/oclc/751794157
目録規則: 英米目録規則
整理区分コード: 215