レジストプロセスの最適化テクニック : 微細化・トラブル解消のための工程別対策および材料技術

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-904080-90-0
• タイトル: レジストプロセスの最適化テクニック : 微細化・トラブル解消のための工程別対策および材料技術
• タイトルよみ: レジスト プロセス ノ サイテキカ テクニック : ビサイカ トラブル カイショウ ノ タメ ノ コウテイベツ タイサク オヨビ ザイリョウ ギジュツ
• 著者標目: 情報機構 ジョウホウ キコウ ( 01171002 )典拠
• 出版事項: 東京 : 情報機構
• 出版年月日等: 2011.9
• 出版年（W3CDTF）: 2011
• 数量: 557p
• 大きさ: 27cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: リソグラフィー リソグラフィー ( 00576369 )典拠
• NDC9版: 549.7 : 電子工学
• NDLC: ND386
• NDC（参考図書紹介）: 549.51
• 対象利用者: 一般
• 入手条件・定価: 69000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND386-J148
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000011284277; http://id.ndl.go.jp/bib/000011284277
• 全国書誌番号: 21993334
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

• 要約等: 微細化・高精度化のために、各プロセスをどうするか―ノウハウを掴もう！（提供元: 出版情報登録センター（JPRO））

目次

目次

第1章 レジストプロセス最適化のための要点と手法―光学像の準備―

1. レジストプロセス最適化概要/ 3

1.1 リソグラフィ工程の流れとレジストプロセス/ 3

1.2 リソグラフィの技術トレンド/ 5