Photomask and next-generation lithography mask technology 18 : 13-15 April 2011 : Yokohama, Japan : Apr 2011, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 8081)

Photomask and next-generation lithography mask technology 18 : 13-15 April 2011 : Yokohama, Japan : Apr 2011, Yokohama, Japan.

(SPIE Proceedings ; 8081)

国立国会図書館請求記号: M17-12-1047
国立国会図書館書誌ID: 000011287971

資料種別: 図書

著者: Konishi, Toshio.

出版者: SPIE

出版年: c2011.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 1 v. (various pagings) ; 28 cm.

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Papers."This conference was canceled due to the earthquake off the northeast coast of Japan in March 2011. This volume includes some of the papers tha...

形態の詳細：: ill. (some col.)

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 9780819486738
ISSN（シリーズ）: 0277786X
タイトル: Photomask and next-generation lithography mask technology 18 : 13-15 April 2011 : Yokohama, Japan : Apr 2011, Yokohama, Japan.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 8081
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 8081. 0277-786X
著者標目: Konishi, Toshio.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2011.
出版年（W3CDTF）: 2011
数量: 1 v. (various pagings)
形態の詳細: ill. (some col.)
大きさ: 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Masks (Electronics)--Congresses.
Integrated circuits--Masks--Congresses.
X-ray lithography--Congresses.
Microlithography--Congresses.
Optoelectronic devices--Design and construction--Congresses.
LCC: QC371
NDLC: M17
対象利用者: 一般
一般注記: Papers.
"This conference was canceled due to the earthquake off the northeast coast of Japan in March 2011. This volume includes some of the papers that were scheduled to be presented at the conference."
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-12-1047
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000011287971
http://id.ndl.go.jp/bib/000011287971
OCLC番号: 751830186
https://www.worldcat.org/oclc/751830186
目録規則: 英米目録規則
整理区分コード: 215