プラズマCVDを用いたアモルファス炭素系薄膜材料の形成プロセスの解析と構造評価

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: プラズマCVDを用いたアモルファス炭素系薄膜材料の形成プロセスの解析と構造評価
• タイトルよみ: プラズマ CVD オ モチイタ アモルファス タンソケイ ハクマク ザイリョウ ノ ケイセイ プロセス ノ カイセキ ト コウゾウ ヒョウカ
• 著者・編者: 和田晃 [著]
• 著者標目: 和田, 晃 ワダ, アキラ
• 出版事項: [和田晃]
• 出版年月日等: [2011]
• 出版年（W3CDTF）: 2011
• 数量: 1冊
• 授与機関名: 長岡技術科学大学
• 授与年月日: 平成23年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2011
• 報告番号: 甲第575号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2011-H677
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000011298516; http://id.ndl.go.jp/bib/000011298516
• 整理区分コード: 213