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Stress management for 3D ICs using through silicon vias : international workshop on stress management for 3D ICs using through silicon vias : Albany, NY, U.S.A. March 16, 2010 : San Francisco, CA, U.S.A. July 13, 2010 : Dresden, Germany October 20, 2010 : 2010, ------. (AIP Conference Proceedings ; 1378)

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Stress management for 3D ICs using through silicon vias : international workshop on stress management for 3D ICs using through silicon vias : Albany, NY, U.S.A. March 16, 2010 : San Francisco, CA, U.S.A. July 13, 2010 : Dresden, Germany October 20, 2010 : 2010, ------.

(AIP Conference Proceedings ; 1378)

国立国会図書館請求記号
M17-12-2241
国立国会図書館書誌ID
023411711
資料種別
図書
著者
International Workshop on Stress Management for 3D ICs Using Through Silicon Vias (2010 : Albany, N.Y.)ほか
出版者
American Institute of Physics
出版年
2011.
資料形態
ページ数・大きさ等
vi, 175 p. ; 25 cm.
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

Papers.Held in Mar 2010, Albany, NY, U.S.A., Jul 2010, San Francisco, CA, U.S.A. and Oct 2010, Dresden, Germany.

形態の詳細:

ill.

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
9780735409385
ISSN(シリーズ)
0094243X
シリーズタイトル
出版年月日等
2011.
出版年(W3CDTF)
2011