Photomask technology 2011 : 19-22 September 2011 : Monterey, California, United States : SPIE conference on photomask technology 2011 : 31st international symposium on photomask technology : Sep 2011, Monterey, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN（セット）: 9780819487919 (pbk. : set)
• ISSN（シリーズ）: 0277786X
• タイトル: Photomask technology 2011 : 19-22 September 2011 : Monterey, California, United States : SPIE conference on photomask technology 2011 : 31st international symposium on photomask technology : Sep 2011, Monterey, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 8166
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 8166. 0277-786X
• 著者標目: Maurer, Wilhelm.; Abboud, Frank E.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2011.
• 出版年（W3CDTF）: 2011
• 数量: 2 parts
• 形態の詳細: ill. (some col.)
• 大きさ: 28 cm.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits--Masks--Congresses.; Masks (Electronics)--Congresses.; Microlithography--Congresses.; Photomask technology; SPIE
• LCC: QC371
• DDC: 621.3815/31
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-12-2555
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 023449624; http://id.ndl.go.jp/bib/023449624
• LC control number: 2012359726; https://lccn.loc.gov/2012359726
• OCLC番号: 775026088; https://www.worldcat.org/oclc/775026088
• 目録規則: 英米目録規則
• 整理区分コード: 215