Investigation for controlling surface roughness and mechanical strength of CZ-silicon wafer with high-temperature annealing

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Investigation for controlling surface roughness and mechanical strength of CZ-silicon wafer with high-temperature annealing
• 著者・編者: Koji Araki [著]
• 著者標目: 荒木, 浩司 アラキ, コウジ
• 出版事項: [Koji Araki]
• 出版年月日等: [2011]
• 出版年（W3CDTF）: 2011
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 高温アニールによるCZシリコンウェハーの表面粗さと機械的強度の制御に関する研究 コウオン アニール ニ ヨル CZ シリコン ウェハー ノ ヒョウメンアラサ ト キカイテキ キョウド ノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 東京理科大学
• 授与年月日: 平成23年3月20日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2011
• 報告番号: 甲第999号
• 学位: 博士 (理学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2011-S582
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 023625887; http://id.ndl.go.jp/bib/023625887
• 整理区分コード: 213