Studies on plasma etching process of low dielectrics for fine pattern profile control with less damage

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Studies on plasma etching process of low dielectrics for fine pattern profile control with less damage
• 著者・編者: Hiroshi Yamamoto [著]
• 著者標目: 山本, 洋 ヤマモト, ヒロシ
• 出版事項: [Hiroshi Yamamoto]
• 出版年月日等: [2012]
• 出版年（W3CDTF）: 2012
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 低誘電率材料の微細パターン制御および低ダメージプラズマエッチングプロセスに関する研究 テイユウデンリツ ザイリョウ ノ ビサイ パターン セイギョ オヨビ テイダメージ プラズマ エッチング プロセス ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 名古屋大学
• 授与年月日: 平成24年3月26日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2012
• 報告番号: 甲第9602号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2012-A728
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 023666884; http://id.ndl.go.jp/bib/023666884
• 整理区分コード: 213