Advances in resist materials and processing technology 29 : 13-15 February 2012 : San Jose, California, United States : Feb 2012, San Jose, CA. (SPIE Proceedings ; 8325)

Advances in resist materials and processing technology 29 : 13-15 February 2012 : San Jose, California, United States : Feb 2012, San Jose, CA.

(SPIE Proceedings ; 8325)

国立国会図書館請求記号: M17-12-4062
国立国会図書館書誌ID: 023762502

資料種別: 図書

著者: Somervell, Mark Howell, 1973-ほか

出版者: SPIE

出版年: c2012.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 1 v. (various pagings) ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

形態の詳細：: ill.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 9780819489814
ISSN（シリーズ）: 0277786X
タイトル: Advances in resist materials and processing technology 29 : 13-15 February 2012 : San Jose, California, United States : Feb 2012, San Jose, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 8325
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 8325. 0277-786X
著者標目: Somervell, Mark Howell, 1973-
Wallow, Thomas Ingolf.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2012.
出版年（W3CDTF）: 2012
数量: 1 v. (various pagings)
形態の詳細: ill.
大きさ: 28 cm.
その他のタイトル: SPIE advanced lithography.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
ジャンル・形式用語: Electronic books.
件名標目: Photoresists--Congresses.
Microlithography--Congresses.
LCC: TK7874
NDLC: M17
対象利用者: 一般
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
一次資料へのリンクURL: http://link.spie.org/PSISDG/8325/1
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-12-4062
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 023762502
http://id.ndl.go.jp/bib/023762502
OCLC番号: 794060535
https://www.worldcat.org/oclc/794060535
目録規則: 英米目録規則
整理区分コード: 215