Advances in resist materials and processing technology 29 : 13-15 February 2012 : San Jose, California, United States.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9780819489814
• ISSN（シリーズ）: 0277786X
• タイトル: Advances in resist materials and processing technology 29 : 13-15 February 2012 : San Jose, California, United States.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 8325
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 8325. 0277-786X
• 著者標目: Somervell, Mark Howell, 1973-; Wallow, Thomas Ingolf.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2012.
• 出版年（W3CDTF）: 2012
• 数量: 1 v. (various pagings)
• 形態の詳細: ill.
• 大きさ: 28 cm.
• その他のタイトル: SPIE advanced lithography.; Feb 2012, San Jose, CA.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• ジャンル・形式用語: Electronic books.
• 件名標目: Photoresists--Congresses.; Microlithography--Congresses.
• LCC: TK7874
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 一次資料へのリンクURL: http://link.spie.org/PSISDG/8325/1
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-12-4062
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 023762502; http://id.ndl.go.jp/bib/023762502
• OCLC番号: 794060535; https://www.worldcat.org/oclc/794060535
• 目録規則: 英米目録規則
• 整理区分コード: 215