Advanced etch technology for nanopatterning : 13-14 February 2012 : San Jose, California, United States.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9780819489845 (pbk.)
• ISSN（シリーズ）: 0277786X
• タイトル: Advanced etch technology for nanopatterning : 13-14 February 2012 : San Jose, California, United States.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 8328
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 8328. 0277-786X
• 著者標目: Zhang, Ying.; Oehrlein, G. S.; Lin, Qinghuang, 1963-
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2012.
• 出版年（W3CDTF）: 2012
• 数量: 1 v. (various pagings)
• 形態の詳細: ill. (some col.)
• 大きさ: 28 cm.
• その他のタイトル: SPIE advanced lithography.; advanced etch technology for nanoatterning [i.e. nanopatterning] conference : SPIE advanced lithography symposium : 1st AETNC : Feb 2012, San Jose, CA.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Plasma etching--Congresses.; Lithography--Congresses.; Advanced etch technology; Nanopatterning
• LCC: TA2020; QC371
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Selected papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-12-3838
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 023768925; http://id.ndl.go.jp/bib/023768925
• LC control number: 2012471867; https://lccn.loc.gov/2012471867
• OCLC番号: 797974369; https://www.worldcat.org/oclc/797974369
• 目録規則: 英米目録規則
• 整理区分コード: 215