ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術 : 成膜技術と膜・界面の物性科学

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-86469-039-3
• タイトル: ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術 : 成膜技術と膜・界面の物性科学
• タイトルよみ: ナノ エレクトロニクス ニ オケル ゼツエン チョウハクマク ギジュツ : セイマク ギジュツ ト マク カイメン ノ ブッセイ カガク
• 出版事項: 東京 : エヌ・ティー・エス
• 出版年月日等: 2012.7
• 出版年（W3CDTF）: 2012
• 数量: 338,11p 図版22p
• 大きさ: 27cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 薄膜 ハクマク ( 00562857 )典拠; 絶縁・絶縁材料 ゼツエンゼツエンザイリョウ ( 00574620 )典拠
• NDC9版: 549.8 : 電子工学
• NDLC: ND371
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 索引あり
• 入手条件・定価: 38000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND371-J220
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 023775975; http://id.ndl.go.jp/bib/023775975
• 全国書誌番号: 22138620
• トーハンMARC番号: 32782771
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

目次

第1編 ●エレクトロニクスにおけるスケーリングの追求と絶縁膜の技術・科学的課題

第1章 絶縁膜の超薄膜化ニーズ

1 はじめに/ 3

2 集積回路におけるトランジスタの微細化の必要性/ 3