ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術 : 成膜技術と膜・界面の物性科学

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-86469-039-3
• Title: ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術 : 成膜技術と膜・界面の物性科学
• Title Transcription: ナノ エレクトロニクス ニ オケル ゼツエン チョウハクマク ギジュツ : セイマク ギジュツ ト マク カイメン ノ ブッセイ カガク
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : エヌ・ティー・エス
• Publication Date: 2012.7
• Publication Date (W3CDTF): 2012
• Extent: 338,11p 図版22p
• Size: 27cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: 薄膜 ハクマク ( 00562857 )Authorities; 絶縁・絶縁材料 ゼツエンゼツエンザイリョウ ( 00574620 )Authorities
• NDC 9th ed.: 549.8 : Electronic engineering
• NDLC: ND371
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 索引あり
• Price: 38000円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND371-J220
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 023775975; http://id.ndl.go.jp/bib/023775975
• National Bibliography No. (JPNO): 22138620
• TOHAN MARC No.: 32782771
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

Table of Contents

目次

第1編 ●エレクトロニクスにおけるスケーリングの追求と絶縁膜の技術・科学的課題

第1章 絶縁膜の超薄膜化ニーズ

1 はじめに/ 3

2 集積回路におけるトランジスタの微細化の必要性/ 3