Atomic layer deposition : principles, characteristics, and nanotechnology applications 2nd Edition.

Atomic layer deposition : principles, characteristics, and nanotechnology applications

2nd Edition.

国立国会図書館請求記号: PA151-B51
国立国会図書館書誌ID: 023948615

資料種別: 図書

著者: Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, and Arthur Sherman.

出版者: Scrivener Publishing

出版年: [2013]

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: xv, 253 pages ; 25 cm

NDC: -

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形態の詳細：: illustrations

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 9781118062777 (cloth : alk. paper)
1118062779 (cloth : alk. paper)
タイトル: Atomic layer deposition : principles, characteristics, and nanotechnology applications
著者・編者: Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, and Arthur Sherman.
版: 2nd Edition.
著者標目: Kääriäinen, Tommi.
Cameron, David, 1949-
Kääriäinen, Marja-Leena.
Sherman, Arthur, 1931-
出版事項: Salem, Massachusetts : Scrivener Publishing
Hoboken, New Jersey : John Wiley & Sons, Inc.
出版年月日等: [2013]
出版年（W3CDTF）: 2013
数量: xv, 253 pages
形態の詳細: illustrations
大きさ: 25 cm
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
表現種別: text
機器種別: unmediated
キャリア種別: volume
件名標目: Chemical vapor deposition.
Epitaxy.
Microelectronics.
Nanotechnology.
LCC: TS695
DDC: 620/.5
NDLC: PA151
対象利用者: 一般
書誌注記: Includes bibliographical references and index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: PA151-B51
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 023948615
http://id.ndl.go.jp/bib/023948615
LC control number: 2013016209
https://lccn.loc.gov/2013016209
OCLC番号: 841199208
https://www.worldcat.org/oclc/841199208
目録規則: RDA
整理区分コード: 211