Photomask technology 2012 : 11-13 September 2012 : Monterey, California, United States.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9780819492609 (paperback)
• ISSN（シリーズ）: 0277786X
• タイトル: Photomask technology 2012 : 11-13 September 2012 : Monterey, California, United States.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 8522
• 著者標目: Abboud, Frank E.; Faure, Thomas B.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2012.
• 出版年（W3CDTF）: 2012
• 数量: 1 v. (various pagings)
• 形態の詳細: ill.
• 大きさ: 28 cm.
• その他のタイトル: SPIE conference on photomask technology 2012 : 32nd international symposium on photomask technology : Sep 2012, Monterey, CA.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits--Masks--Congresses.; Masks (Electronics)--Congresses.; Microlithography--Congresses.
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: An abstract and papers.; Described as "The conference was (...) held as part of the 32nd International Symposium on Photomask Technology 10-13 September 2012 in Monterey, (...)" -- introd.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-13-1687
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 024187763; http://id.ndl.go.jp/bib/024187763
• LC control number: 2012540918; https://lccn.loc.gov/2012540918
• 目録規則: 英米目録規則
• 整理区分コード: 215