Study of electron device fabrication processes of silicon nanocrystals prepared by very high frequency plasma deposition system

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Study of electron device fabrication processes of silicon nanocrystals prepared by very high frequency plasma deposition system
• 著者・編者: Yoshifumi Nakamine [著]
• 著者標目: 中峯, 嘉文 ナカミネ, ヨシフミ
• 出版事項: [Yoshifumi Nakamine]
• 出版年月日等: [2012]
• 出版年（W3CDTF）: 2012
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: VHFプラズマを用いて作製されたシリコンナノ結晶のデバイスプロセスに関する研究 VHF プラズマ オ モチイテ サクセイサレタ シリコン ナノ ケッショウ ノ デバイス プロセス ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 東京工業大学
• 授与年月日: 平成24年3月26日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2012
• 報告番号: 甲第8717号
• 学位: 博士(工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2012-Q90
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 024377055; http://id.ndl.go.jp/bib/024377055
• 整理区分コード: 213