Study of electron device fabrication processes of silicon nanocrystals prepared by very high frequency plasma deposition system

• Material Type: 博士論文
• Title: Study of electron device fabrication processes of silicon nanocrystals prepared by very high frequency plasma deposition system
• Author/Editor: Yoshifumi Nakamine [著]
• Author Heading: 中峯, 嘉文 ナカミネ, ヨシフミ
• Publication, Distribution, etc.: [Yoshifumi Nakamine]
• Publication Date: [2012]
• Publication Date (W3CDTF): 2012
• Extent: 1冊
• Alternative Title: VHFプラズマを用いて作製されたシリコンナノ結晶のデバイスプロセスに関する研究 VHF プラズマ オ モチイテ サクセイサレタ シリコン ナノ ケッショウ ノ デバイス プロセス ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東京工業大学
• Date Granted: 平成24年3月26日
• Date Granted (W3CDTF): 2012
• Dissertation Number: 甲第8717号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2012-Q90
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 024377055; http://id.ndl.go.jp/bib/024377055
• Bibliographic Record Category (NDL): 213