Photomask technology 2013 : 10-12 September 2013 : Monterey, California, United States.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9780819495457 (paperback)
• ISSN（シリーズ）: 0277786X
• タイトル: Photomask technology 2013 : 10-12 September 2013 : Monterey, California, United States.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 8880
• 著者標目: Faure, Thomas B.; Ackmann, Paul W.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2013.
• 出版年（W3CDTF）: 2013
• 数量: 1 v. (various pagings)
• 形態の詳細: ill.
• 大きさ: 28 cm.
• その他のタイトル: SPIE conference on photomask technology 2013 : 33rd international symposium on photomask technology : Sep 2013, Monterey, CA.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits--Masks--Congresses.; Masks (Electronics)--Congresses.; Microlithography--Congresses.; Photomask technology
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-14-1683
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 025153412; http://id.ndl.go.jp/bib/025153412
• OCLC番号: 870645709; https://www.worldcat.org/oclc/870645709
• 目録規則: 英米目録規則
• 整理区分コード: 215